科室: 面板科 副主任醫師 路雲環

  308nm氯化氙鐳射(XeCl laser)

  308nm準分子鐳射又稱氙鐳射,2000年美國FDA批准308nm準分子鐳射用於銀屑病治療,308nm準分子鐳射波長與NB-UVB(31Inm)相近,但傳統UVB為多頻連續的非相干光,準分子鐳射為單頻相干光,二者脈衝頻率不同,在白癜風的治療上準分子鐳射較NB一UVB顯示出更好的療效〔近年有人嘗試用308nm氙鐳射治療穩定期限局型白癜風並獲得較好的療效。308nm準分子鐳射是目前治療白癱風的最新方法,與包括窄譜UVB等其他光療相比,在相同能量下,鐳射更具穿透力,可穿達1.5mm的真皮淺層,能更有效誘導T淋巴細胞反應;此外,它操作靈活,可用於治療局灶性病變,尤其是面板皺褶處部位;因具有更高的選擇性,只針對皮損部位,很少影響病變周圍正常面板,從而使大劑量應用進一步提高療效成為可能;同時可以縮短治療時間,降低紫外線總暴露量,減少面板癌發生的可能性,患者依從性好。308nm準分子鐳射有望成為一種白癜風治療的快速有效的新方法,是目前治療白癱風尤其是侷限型白癜風的較好選擇,聯合其他治療方法可以進一步提高療效。

注:此資訊源于網路收集,如有健康問題請及時咨詢專業醫生。


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