點陣鐳射技術是最近兩年美國最新最熱,也是全球面板界最受關注的最新面板美容技術，是介於有創和無創之間的一種微創治療. 點陣鐳射治療理論英文稱為 Fractional Photothermolysis(點陣式光熱分解作用)理論，是由美國哈佛大學的鐳射醫學專家Dr. Rox Anderson於2004年首先發表, 立即得到世界各地專家認同並迅速應用於臨床治療。
一、點陣鐳射的概述
（一）點陣鐳射
點陣鐳射英文稱Fractional laser，在國內有許多不同的稱呼。其中應用比較多的是點陣鐳射或畫素鐳射，也有稱之為橋式鐳射、橋式治療、飛梭鐳射和打孔鐳射。
傳統的鐳射治療是在治療區域產生一個面的治療，而點陣鐳射是產生一個點狀的、一種很微小的損傷，周圍有很多正常的面板。
（二）剝脫性鐳射技術及其優缺點
剝脫性鐳射技術的代表裝置有CO2鐳射和ER-YAG鐳射，可以獨立或結合使用。其色基都是水，是氣化組織，去除表皮和真皮乳頭層，使面板再生。利用鐳射的能量，選擇性加熱，收縮真皮膠原，啟用成纖維細胞，合成新膠原，使面板收緊。優點是能產生非常好的嫩膚效果，是嫩膚治療的金標準。缺點是在治療過程中產生大面積的剝脫症狀，需要1-2周的創面修復期和經歷長期的紅斑期（一般持續在6個月左右）。對黃種人等有色人種併發症比較高，比較常見的有感染、瘢痕、色素沉著或脫失。
（三）非剝脫性鐳射技術的概念及優缺點
非剝脫性鐳射技術是對真皮中特定的靶組織產生一種可控性的損傷, 而不產生表皮的損傷。它是利用鐳射能量，選擇性加熱真皮組織，刺激膠原重塑，形成新膠原，收緊面板；同時去除面板異常色素和擴張血管。它的優點是表皮沒有損傷，不產生剝脫症狀，不需要恢復時間，極少產生剝脫所引發的併發症，幾乎可在機體的任何部位實施。它的缺點是隻能產生一定程度的嫩膚效果。
（四）點陣鐳射技術的概念及優缺點
點陣鐳射技術是一種比較新的一種技術。它的代表裝置是CO2鐳射、Er:YAG鐳射、鉺光纖、鉺玻璃和Nd:YAG鐳射。它只對治療區域的部分面板進行治療，產生許多微小的創面或凝固性壞死柱，周圍大部分面板得以完整保留，並不受損傷，以提供面板再生的源泉，使微小創面或壞死柱在短期內迅速的修復，較完整地保留了面板的屏障功能。它是利用鐳射能量，選擇性加熱、收縮真皮膠原，啟用成纖維細胞，合成新的膠原，使面板收緊。
點陣鐳射的優點：是介於剝脫與非剝脫之間，集合了剝脫性技術的有效性和非剝脫性技術的安全性，彌補了剝脫和非剝脫治療之間的空白，既可產生剝脫性治療快速而顯著的效果，又有非剝脫性治療副作用小、恢復迅速的優勢，集二者優點為一體，很少出現永久性的併發症。它的缺點是可以產生結痂，需要一週左右的創面修復，需要多次治療，有一定的色素沉著的發生率，但是比較少。
第一次治療後，面板層產生許多細小的柱狀面板損傷，然後面板進行修復，表皮脫落，刺激膠原進行重塑。恢復結束後，我再進行下一次點陣鐳射治療來彌補上次治療遺留的未治療的區域，這樣經過反覆的治療就可以達到一個傳統的鐳射換膚的治療效果。
二、點陣鐳射的分類
點陣鐳射分兩大類：第一類是非剝脫性點陣鐳射，第二類是剝脫性點陣鐳射。非剝脫性點陣鐳射包括1550nm二極體泵浦鉺光纖鐳射、1540nm閃光燈泵浦鉺玻璃鐳射、1320 nm 和1440 nm Nd:YAG兩個鐳射。 剝脫性點陣鐳射代表是CO2鐳射和Er:YAG鐳射和Er:YSGG鐳射。
（一）非剝脫性點陣鐳射
非剝脫性點陣鐳射是最早應用於臨床，報道最多的一類鐳射。其波長在1400～1600nm之間。它在治療過程中僅產生組織凝固，並不產生組織汽化，表皮是完整的，而真皮膠原發生收縮、發生變性，從而可以刺激膠原的增生，形成新的膠原組織。
（二）剝脫性點陣鐳射
剝脫性點陣鐳射臨床應用時間雖然比較短，但已經充分地顯示出此類鐳射的效果優於非剝脫性鐳射，同樣具有良好的安全性。它的色基主要是組織中的水，靶組織為表皮細胞、膠原和血管。它在治療過程中形成了一系列柱狀的表皮和部分真皮的汽化和剝脫，它的深度取決於鐳射的波長、能量的大小和面板的狀態（面板的水化狀態和表面溫度）。與非剝脫性鐳射相比，剝脫性治療的次數比較少，效果更加明顯，但是治療痛苦較大，往往需要麻醉的配合，恢復的時間相對較長。
鐳射照射後形成了一種微治療區，它包括三部分，其中有中央的微剝脫區（MTZ）、中間薄薄的碳化層，外層的微凝固層。由於鐳射波長和水吸收率的不同，三類鐳射形成的三個區各有不同。對於Er:YAG鐳射而言，窄脈衝下，即便連續疊加兩個脈衝，組織活檢中仍看不到碳化層的形成；而CO2鐳射脈衝很難做得很窄，僅一個脈衝，在微剝脫區周圍會形成明顯的碳化層。它在治療以後誘發特異性修復反應，導致再上皮化和膠原的重塑，增加透明質酸和膠原的產生。
（三）微光束產生技術
微光束的產生是通過一種特殊的技術來形成的。第一類是掃描器，常用於CO2鐳射，第二類是光學篩子或透鏡陣列，一般用於Er鐳射，第三類是稜鏡，可以把一個鐳射分成許多微小的鐳射束。應用掃描器的鐳射可以調節微治療區的密度，使用篩子、透鏡和稜鏡的鐳射，這種密度一般是比較固定的，它只能靠更換鏡片來改變它的密度。
三、影響點陣鐳射作用的因素
（一）波長
隨著鐳射波長的增加，鐳射在真皮裡的散射減少，穿透深度有增加。從下圖可以看到，隨著鐳射波長的增加，它的穿透深度在不斷地加深。但是當超過1200nm時，色基就變成了水，它被吸收大量的能量，使鐳射的穿透深度變淺。
不同波長的鐳射對組織的反應是不一樣的，CO2鐳射產生一個比較明顯的碳化層，而2790nmER鐳射只是在底層產生輕微的碳化層，而2940nmEr鐳射是沒有碳化層的存在的，所以治療後會產生滲血。
（二）光斑密度
在一個固定位置上的多變治療可以增加它的光斑密度。最初從5％的光斑密度開始，經過3個Pass，也就是3遍的治療可以變成15％，10％可以變成27％，15％可以變成39％。治療過程中應該充分考慮，重複的次數與治療的面積是一定的關係。
（三）光斑大小
一般認為小於200μm的光斑具有較深的穿透深度，可以進行較深的治療，如瘢痕和皺紋這一類的治療。而大於300μm 穿透深度比較淺，如ActveFX模式，其光斑直徑是1.3mm，能達到真皮乳頭層，進行比較表淺的治療如面板色素類疾病的治療，可以採取較大光斑的治療。
（四）光斑型別
光斑型別有兩種，一種是柵格的，一種是隨機的。柵格里有一種是低密度的，有一種是高密度的。隨機密度，因為每個光斑之間距離較遙遠，所以組織散熱的機率、時間較長，而柵格式，特別是高密度的治療，往往形成一個類似於二氧化碳換膚的全剝脫的治療，這在臨床上要儘量避免。
（五）光斑掃描模式
光斑掃描模式一種是順序掃描，一種是非順序掃描，對組織中熱量的散發有一定的影響。順序掃描在治療過程中會影響熱量的散發。非順序的每個光斑之間的距離較遙遠，有重組的時間來把熱量散發掉，所以不容易產生一個過度加熱的和整體加熱的情況。
（六）能量密度
在微治療區的深度與直徑和能量密度呈一種線性的關係，能量設定應該達患者問題所在的部位，即能量設在靶基所在之處。表淺的皺紋、薄面板應設定較低的能量密度，深部瘢痕必然應用高能量密度。能量密度不足，即使多遍治療，也不能達到足夠的深度。
一些非剝脫性的點陣鐳射治療，高能量密度可以導致表皮下分離，導致黑色素細胞的腫脹，很容易產生炎症後的色素沉著。
（七）脈寬
一般而言，脈寬越長，產生的熱能越多，微治療區的直徑與脈寬是呈正相關的，隨著脈寬的增加，形態也由柱狀轉化成三角形。為防止表皮的不當損傷，脈寬應該儘量選擇短一些。超級脈衝模式的鐳射，脈寬一般在 200-500μs，它是在面板的熱持續時間的範圍以內，相對比較安全。
（八）脈衝特徵
脈衝可以是一個單一的脈衝，也可以是一個脈衝串，兩個脈衝波長可以與脈寬不同，也可以能量高低有差別。通過子脈衝的調整可以優化汽化和凝固之間的平衡.如果我們採用一個雙脈衝，第二個脈衝能量密度降低，在一種剝脫的範圍以下增加它的脈寬，就會在周圍組織產生凝固。而且脈寬越長，凝固層越厚。
四、點陣鐳射的適應證
點陣鐳射在臨床上的適應證包括：
1、改善面、頸部皺紋，美白、緊緻面板，收縮毛孔、改善面板粗糙。
2、去除面板色素性病變，包括雀斑、日光斑、老年斑、色素沉著、黃褐斑等。點陣鐳射是FDA批准的唯一可行的治療黃褐斑的方法。
3、可以治療酒糟鼻、毛細血管擴張等面板血管性疾病。
4、可以減輕或去除痤瘡瘢痕、各種外傷性的瘢痕，包括凹陷性、增生性瘢痕或瘢痕疙瘩以及膨脹紋的治療。
五、點陣鐳射的併發症
點陣鐳射的併發症並不多。下圖中藍色的表示是傳統的二氧化碳鐳射，紅色的是傳統的鉺鐳射，而黃色的是點陣鐳射。可以看到點陣鐳射HSV的感染、病毒的感染、痤瘡、炎症後的色素沉著的發生率，都比傳統的剝脫鐳射要少得多。
痤瘡，黑色素的感染、糜爛，炎症後色素沉著，紅斑，水腫和皮炎，除了炎症後色素沉著以外，它們的發生率都比較早，而且持續時間都不長，一般都在10天以內都能自行消退。只有炎症後的色素沉著時間發生的比較晚，一般在脫痂以後，而且維持時間比較長，但是大部分患者會在兩個月左右慢慢消退。
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